溫室水肥一體化灌溉管理實現番茄優質高產！

連棟玻璃溫室灌溉設備的主要配套硬件有施肥機、清水池、回液池與消毒池、UV 消毒機、母液池、RO 反滲透制水、壓力補償器及滴箭、基質稱等。

基質秤（ 圖1） 是一種集進回液量、dry-down（基質含水量損耗率）、EC、pH、基質重量、基質含水量等于一體的數據測量收集、存儲與實時傳輸的智能設備，為種植者提供更多有關基質與根系的信息，以便實現精確灌溉。國內目前主要灌溉水包括RO 水、地下井水及雨水，雨水由于其可免費獲得，且含有較少的礦物鹽，較低的EC 被廣泛使用，因此需要配套雨水池進行雨水收集。

單次灌溉量的多少取決于灌溉階段以及基質與植株狀態。一般而言，每個基質條單次灌溉量按照2.5%~5% 的灌溉基質比（基質條單次灌溉總量/ 基質條泡發后體積比） 給與灌溉，其目的在于充分的沖洗替換基質中的礦質元素，偏多與偏少都會導致基質中部分區域未得到完全沖洗，進而導致營養元素的梯度如圖2 所示。2.5% 的灌溉基質比積比意味著單次灌溉量少但頻繁灌溉，即觸發灌溉的輻射積累量低，而5% 則意味著低頻率高灌溉量高輻射積累量觸發值。灌溉頻率的高低與基質種類相關，椰糠保水性及緩沖性優于巖棉，因此選用椰糠的情況下，其灌溉頻率要低于巖棉，即選擇更大的灌溉基質比，便于灌溉后氧氣進入椰糠。

選用不同的灌溉基質比決定了單次灌溉量與頻率，如植株偏向營養生長，則可以適當提高灌溉基質比，擴大灌溉間隔，降低灌溉頻率。此外，單次灌溉量因當日不同階段而有所區分，以當日第一階段為例，如dry-down 測量值為10%，單位面積基質量為8.0 L/m²，在第一階段24 h 平均溫度22℃，日間均濕為75% 的情況下，如光積累量為400 J，初步計算蒸騰量為2 mL/J，加上10% 的dry-down，如果要將基質含水量WC 恢復到飽和情況下，則第一階段灌溉總量為800 mL+800 L×10%×1000，即約為1600 mL，灌溉輻射比約為4。

回液是灌溉時多余的營養液從基質袋中流出的液體，回液量計算值為單個基質條回液量與灌溉總量的比值。在荷蘭由于嚴格的環境保護法律，限制種植者將回液排放到周邊，因此在荷蘭現代化溫室中，回液需要經收集系統、UV 消毒機后循環再用。目前灌溉系統分為開放系統與循環系統，前者將回液直接外排，而后者則將營養液回收消毒后再進行使用。

回液的目的在于確保植株有足夠的水肥供應，維持根際EC 與各離子濃度在合適的范圍，具體可以參考表2。一般而言，對于每一日的回液，其主要來源于第二階段，第一階段排液量不應超過當日總回液的40%，第三階段不應出現回液?；匾毫康亩嗌賱t主要取決于單日輻射積累量，通常植株于晴天高輻射情況下根系吸水量多于吸肥量，因此在晴天應增加回液量，確保根際EC 穩定并處于合理范圍內，每日回液控制可參見表3。

消毒后的回液存儲于回液消毒池中，在循環使用回液的情況下，需要定期（每月2~4 次）的營養液成分檢測，以便根據回液調整母液配方，一般滴箭進液端，回液的用量不超過進液EC 的1/3，即進液為3 的情況下，回液使用的EC 不超過1。當回液中某一離子濃度超過進液目標濃度時，則進液中該離子來源于母液的濃度不應低于目標濃度的50%，例如進液中B 元素目標濃度50 nmol，回液中該離子濃度為60 nmol，則來源于母液的B 元素濃度不應低于25 nmol，以確?；匾撼煞侄嘧兊那闆r下保證進液離子濃度，避免植株缺素出現。

表3 不同輻射積累量情況下回液控制范圍